839 最后的战役(二)
重生千禧大玩家正文卷839最后的战役沪市,张江技术园区。
中微半导体总部的四周,布置了密密麻麻的电网和监控器,安保力量更是配备齐全。
一座不起眼的工厂里,沙领导、郑韩等一众领导,在陆飞的带领下,来到车间外。
隔着玻璃窗,就能看到一个巨型公交车大小的光刻机,身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物,一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。
“因为芯片制造的过程中,并不是一次曝光就可以完成,而是需要经历多次曝光。”
“在曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动,接着曝光下一個需要曝光的区域,想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准,双工作台就必须做到精度高而且操作时间短,这项技术本来只有ASML有,但现在已经被我们突破了。”
陆飞滔滔不绝,如数家珍。
领导们一言不发,目不转睛地盯着运行中的光刻机,虽然不是第一次见到光刻机,但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机,都压不住激动的心情,尽可能地往前靠,想凑得更一些,看得更清楚一些。
“了不起啊,小陆,你们了不起啊。”
沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65nm干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!这么快让你们搞出来了!”
“哪里,哪里,领导。”
陆飞露出谦虚而内敛的笑容。
“说说吧,到底是怎么搞出来的?”
沙领导眼里满是赞赏之色。
“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳,我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”
陆飞笑道:“DUV浸润式光刻机能成功,完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们,是他们的血汗和信念,才有了今天的光刻机,当然也离不开领导们的支持,地方上的政策,还有相关公司、院校、国企单位的合作。”
顿了顿,“可以说,这台DUV浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心,也代表着目前国内光刻机的最高水平,距离国际一线的EUV光刻机,只有一代的代差了。”
“生产7nm的良品率是多少?”
郑韩脸上挂着得意的笑容。
毕竟,如此国之重器出自张江技术园区,沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。
“不同的芯片不同的良率,但基本能稳定在70%,慢慢调试改进,可以达到80%。”
陆飞比比画画道:“完全可以比肩AMSL,只用4个光罩、4次曝光,就可以达到7nm制程工艺。”
沙领导问道:“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗?”
陆飞点了下头,“没错,7nm是目前市面上最先进的制程工艺,不过根据摩尔定律,再过个一两年,就可能突破到5nm。”
“5nm是不是就需要EUV光刻机了?”
郑韩好奇道。
“有EUV光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7nm、5nm,但没有EUV光刻机也无妨,有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”
陆飞露出个看似轻松的笑容。
“喔?”
顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。
“梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。
一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道:“光刻机这么极限使用,会不会影响到使用寿命?”
“还有良率。”
“是啊,经过这么多道曝光,任何一道工序失败,都可能满盘皆输,成本就上来了……”
领导们来回分析,议论纷纷。
陆飞只能一一回答,“损害寿命肯定会损害,良率低也肯定会低一些,成本自然也就会高一点,但这是没有办法的办法,目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破,还有不少技术难题摆在面前,需要时间去攻破。”
“比如呢?”
沙领导投去问询的目光。
“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台,现在双工作台已经解决了,光源问题也突破了,就剩下物镜系统。”
陆飞直说道:“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术,但蔡司愿意卖给AMSL、尼康,但绝对不会出口给我们。”
然后叹了口气,“没办法,我们只能从零开始,联合长春光机、徕卡、华为等联合研发,现在搞定了DUV浸润式的物镜系统,至于EUV的,恐怕需要很长一段时间。”
“那这期间,复芯、中芯的晶圆代工,有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大?”
郑韩皱了皱眉。
“肯定会,但好在情况并不糟糕。”
陆飞笑道:“虽然5nm是目前我们的极限,理论上而言,台积电、英特尔、三星这些有EUV光刻机的,制程工艺甚至可以冲击到1nm,但得到的回报并不会太高。”
不少领导感到奇怪,“为什么这么说?制程工艺难道不是越先进越好嘛?”
“理论上是这样,但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势,搭载5nm芯片的手机体验,未必就不如3nm,就会让3nm及以下工艺陷入一种尴尬的地步,飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”
陆飞嘿然一笑,“反倒是28nm、14nm和7nm这三个节点的工艺才是市场主流,特别是我们国内绝大部份的芯片需求,所以有了国产的DUV浸润式光刻机,基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子,也能保证支撑到我们研发出EUV光刻机的那一天。”
众人两两相望,相视一笑。
确实,28nm是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。
除了对功耗要求比较高的CPU、GPU、AI芯片外,其余的工业级芯片用的都是28nm以上的技术,比如电视、空调、汽车、高铁、火箭、卫星、工业机器人、电梯、医疗设备、智能手环、无人机……
但现在,7nm,甚至不计任何代价,极限可以推到5nm,简直是绰绰有余。
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中微半导体总部的四周,布置了密密麻麻的电网和监控器,安保力量更是配备齐全。
一座不起眼的工厂里,沙领导、郑韩等一众领导,在陆飞的带领下,来到车间外。
隔着玻璃窗,就能看到一个巨型公交车大小的光刻机,身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物,一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。
“因为芯片制造的过程中,并不是一次曝光就可以完成,而是需要经历多次曝光。”
“在曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动,接着曝光下一個需要曝光的区域,想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准,双工作台就必须做到精度高而且操作时间短,这项技术本来只有ASML有,但现在已经被我们突破了。”
陆飞滔滔不绝,如数家珍。
领导们一言不发,目不转睛地盯着运行中的光刻机,虽然不是第一次见到光刻机,但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机,都压不住激动的心情,尽可能地往前靠,想凑得更一些,看得更清楚一些。
“了不起啊,小陆,你们了不起啊。”
沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65nm干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!这么快让你们搞出来了!”
“哪里,哪里,领导。”
陆飞露出谦虚而内敛的笑容。
“说说吧,到底是怎么搞出来的?”
沙领导眼里满是赞赏之色。
“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳,我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”
陆飞笑道:“DUV浸润式光刻机能成功,完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们,是他们的血汗和信念,才有了今天的光刻机,当然也离不开领导们的支持,地方上的政策,还有相关公司、院校、国企单位的合作。”
顿了顿,“可以说,这台DUV浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心,也代表着目前国内光刻机的最高水平,距离国际一线的EUV光刻机,只有一代的代差了。”
“生产7nm的良品率是多少?”
郑韩脸上挂着得意的笑容。
毕竟,如此国之重器出自张江技术园区,沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。
“不同的芯片不同的良率,但基本能稳定在70%,慢慢调试改进,可以达到80%。”
陆飞比比画画道:“完全可以比肩AMSL,只用4个光罩、4次曝光,就可以达到7nm制程工艺。”
沙领导问道:“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗?”
陆飞点了下头,“没错,7nm是目前市面上最先进的制程工艺,不过根据摩尔定律,再过个一两年,就可能突破到5nm。”
“5nm是不是就需要EUV光刻机了?”
郑韩好奇道。
“有EUV光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7nm、5nm,但没有EUV光刻机也无妨,有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”
陆飞露出个看似轻松的笑容。
“喔?”
顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。
“梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。
一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道:“光刻机这么极限使用,会不会影响到使用寿命?”
“还有良率。”
“是啊,经过这么多道曝光,任何一道工序失败,都可能满盘皆输,成本就上来了……”
领导们来回分析,议论纷纷。
陆飞只能一一回答,“损害寿命肯定会损害,良率低也肯定会低一些,成本自然也就会高一点,但这是没有办法的办法,目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破,还有不少技术难题摆在面前,需要时间去攻破。”
“比如呢?”
沙领导投去问询的目光。
“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台,现在双工作台已经解决了,光源问题也突破了,就剩下物镜系统。”
陆飞直说道:“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术,但蔡司愿意卖给AMSL、尼康,但绝对不会出口给我们。”
然后叹了口气,“没办法,我们只能从零开始,联合长春光机、徕卡、华为等联合研发,现在搞定了DUV浸润式的物镜系统,至于EUV的,恐怕需要很长一段时间。”
“那这期间,复芯、中芯的晶圆代工,有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大?”
郑韩皱了皱眉。
“肯定会,但好在情况并不糟糕。”
陆飞笑道:“虽然5nm是目前我们的极限,理论上而言,台积电、英特尔、三星这些有EUV光刻机的,制程工艺甚至可以冲击到1nm,但得到的回报并不会太高。”
不少领导感到奇怪,“为什么这么说?制程工艺难道不是越先进越好嘛?”
“理论上是这样,但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势,搭载5nm芯片的手机体验,未必就不如3nm,就会让3nm及以下工艺陷入一种尴尬的地步,飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”
陆飞嘿然一笑,“反倒是28nm、14nm和7nm这三个节点的工艺才是市场主流,特别是我们国内绝大部份的芯片需求,所以有了国产的DUV浸润式光刻机,基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子,也能保证支撑到我们研发出EUV光刻机的那一天。”
众人两两相望,相视一笑。
确实,28nm是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。
除了对功耗要求比较高的CPU、GPU、AI芯片外,其余的工业级芯片用的都是28nm以上的技术,比如电视、空调、汽车、高铁、火箭、卫星、工业机器人、电梯、医疗设备、智能手环、无人机……
但现在,7nm,甚至不计任何代价,极限可以推到5nm,简直是绰绰有余。
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